Vì lẽ đó, việc “copy” lại cách làm của ASML với nhà khoa học Nga là điều không tưởng. “Nhìn chung, đường hướng phát triển của ASML dẫn tới những chi phí trang thiết bị khổng lồ”. Các hệ thống TWINSCAN NXE (0.33 NA) của công ty này có giá gần 200 triệu USD, còn TWINSCAN EXE (0.55 NA hay High-NA) gần “đụng nóc” 400 triệu USD. Do đó, Chkhalo đề xuất hướng đi khác có thể xem là “dễ thở” hay “ít chông gai” hơn cách của ASML.
Mô tả sơ lược hệ thống EUV của người Nga, sử dụng bước sóng 11.2 nm nhưng hệ quang học đơn giản hơn ASML 13.5 nm
Hướng đi đó là gì? Trước hết, cần hiểu những thành phần nào quan trọng nhất trong một cỗ máy EUV. Đó là (1) nguồn phát EUV, (2) hệ thống thấu kính quang học và (3) lớp chặn quang (photoresist) dùng để “tương tác” với chùm EUV và giữ lại các chi tiết mạch in IC trên tấm wafer.
Theo Chkhalo thay vì dùng EUV được tạo ra từ các giọt thiếc (Sn) như ASML đang làm, hệ thống của người Nga sẽ dùng Xenon (Xe). Nhờ khác biệt về tính chất vật lý, chùm bức xạ được tạo ra từ việc bắn phá các nguyên tử Xe sẽ đạt bước sóng 11.2 nm, ngắn hơn 13.5 nm từ nguyên tử Sn. Ở cấp độ này, hệ thống kia gần như là “soft” X-ray chứ không phải EUV nữa (nhưng cứ tạm gọi EUV cho dễ nói). Việc chùm bức xạ có năng lượng cao hơn giải quyết được 2 vấn đề.
(A) bước sóng ngắn hơn cho phép “vẽ” mạch in rõ ràng hơn. Đây là lý do tại sao dùng DUV khó sản xuất các tiến trình dưới 7 nm (vì DUV dùng bước sóng 153 nm, dày gấp 14 lần EUV). (B) hệ thấu kính dùng cho Xe sẽ ít phức tạp hơn vì nó không cần hệ số NA cao như ASML (0.27 vs. 0.33) để đạt độ phân giải tương đương. Do đó trên lý thuyết, hệ thống X-ray này sẽ không đòi hỏi sự phức tạp cao như EUV của ASML.
So sánh thông số giữa hệ thống của người Nga và TWINSCAN NXE 3400C của ASML
Ngoài ra một yếu tố khác cần nói đến là tính kinh tế của các cỗ máy. Các hệ thống TWINSCAN NXE hiện có năng suất hơn 160 wafer/giờ (wph). Tuy ASML lẫn các trang media hầu như bỏ qua chi tiết này nhưng nó là yếu tố chính giúp ASML duy trì sự độc tôn hiện nay trên thị trường EUV. Vì để có thể hạ chi phí gia công wafer xuống thì cách đơn giản nhất là tăng năng suất lên.